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鉭的醇鹽主要是甲醇鉭、乙醇鉭、丙醇鉭、丁醇鉭及異丁醇鉭。其中以乙醇鉭的應用最為廣泛。鉭的醇鹽可以溶解在大部分的有機物中，所以它是氧化鉭的理想的前驅(qū)體。鉭和鉭的大部分化合物都比較穩(wěn)定。金屬鉭與乙醇在通常條件下不發(fā)生反應。目前乙醇鉭的合成方法主要有兩種，一種是氯化物化合法；另一種是“犧牲”陽極法。
氯化物化合法生產(chǎn)乙醇鉭是一種比較常用的方法，工藝比較成熟。氯化物對設備及工藝都有著比較高的要求。主要的原因是因為原材料五氯化鉭及產(chǎn)品乙醇鉭都容易和空氣中的水汽反應。五氯化鉭與乙醇反應時會放出大量的熱量，原材料中的稀釋劑及乙醇都是易燃易爆的液體，在中試或者生產(chǎn)中必須控制反應速度。五氯化鉭與乙醇反應會產(chǎn)生高濃度的氯化氫，容易腐蝕設備。原材料中的稀釋劑采用芳香烴，毒性較高。目前，正在相關單位正在研究以其它的低毒有機溶劑代替芳香烴的氯化合成過程。氯化法化合法主要特點是，合成速度快，設備投入小。由于原材料氯化鉭與乙醇反應迅速并生成大量的熱必須采用惰性的稀釋劑控制反應速度。惰性稀釋劑主要采用芳香烴，給操作人員健康和安全帶來了一定的風險。含有芳香烴的廢料難以處理。這種方法必須有充足五氯化鉭原料和相關安環(huán)設備及措施保證。
電解法也是一種新的生產(chǎn)乙醇鉭的方法。其主要的工藝是以鉭片為電極陽極，以不銹鋼等為陰極。
電解陽極上:Ta－5e=Ta5+
電解陰極上:2ＲOH+2e=Ｒ－+H2↑
電解總反應:2Ta+10ＲOH=2Ta(OＲ)5+5H2↑
Ｒ代表的烷基，反應發(fā)生成無水的醇中。反應溶液中添加一些導電質(zhì)。例如:HCl，LiCl，NH4Cl等，也可以添加氯化鉭。
電解后必須經(jīng)過沉淀、過濾、普通蒸餾、減壓蒸餾等過程。
電解法采用高純鉭片，必須控制原材料中的鈮含量。
電解法主要特點是:工藝簡單，過程中有氫氣生成并且放出大量的熱，在實驗及生產(chǎn)過程中必須注意安全。使用的鉭材料比較容易獲取，操作環(huán)境污染少，未使用芳香烴等低毒有機溶劑。但是由于電解速度較慢，電解設備投入較氯化法投入大，適合大批量生產(chǎn)。
乙醇鉭可以用于通過化學氣相沉積(CVD)來沉積制備氧化鉭或者金屬鉭涂層；乙醇鉭水解然后加熱也可以生成氧化鉭粉末，可以生產(chǎn)高純級氧化鉭。美國使用乙醇鉭為前驅(qū)體，生產(chǎn)出了高比面積的氧化鉭薄膜。這種薄膜表現(xiàn)出良好的光學活性，在太陽能電池、光催化劑方面都有潛在的應用。乙醇鉭可以通過等離子技術，生成超細的碳化鉭粉體。乙醇鉭在表面涂層的主要應用是制備氮化鉭或者氧化鉭。因為氮化鉭及氧化鉭具有較高的介電性和穩(wěn)定性，其主要應用在電子元件的保護層及介電層。乙醇鉭可以在電路板中生成具有高熔點和微晶粒的結構的氮化鉭。這種氮化層結構在電路板中，可以使銅與硅或二氧化硅接觸后的擴散得到抑制。另外，也有研究指出，氮化鉭能夠忍受比其它阻障金屬更高的溫度而不會退化，因此乙醇鉭為前驅(qū)體的鉭和氮化鉭是較優(yōu)越的銅制程阻障層。
應用一、CN201310203599.4涉及一種球形五氧化二鉭的制備方法和應用，以乙醇鉭為原料，先配置含有一定量的乙醇鉭溶液然后明火點燃，溶液燃燒的過程中產(chǎn)生水和CO2，乙醇鉭與產(chǎn)生的水在界面發(fā)生水解反應，隨著燃燒過程的進行，不斷在界面產(chǎn)生Ta2O5，最終溶液完全燃燒而消失，形成Ta2O5球狀粉體材料。實驗表明，所制備的納米球形Ta2O5粉末可用于光催化降解有機污染物，也可應用于制備染料敏化太陽能電池光陽極。本發(fā)明方法與現(xiàn)有技術相比，工藝簡單，無需特殊設備，無任何廢液產(chǎn)生，能實現(xiàn)生產(chǎn)過程的節(jié)能減排。
應用二、CN201710713489.0涉及微弧氧化制備鎂及鎂合金表面含鉭涂層的溶液配方及工藝，公開了溶液配方，其中包括硅酸鈉、磷酸三鈉、氫氧化鈉、乙醇鉭、水，配方中的乙醇鉭可用草酸鉭代替，水為溶劑。還公開了涂層的制備工藝：將試樣用砂紙打磨、冷水清洗、丙酮除油、乙醇超聲清洗，然后配制溶液，再將試樣與微弧氧化設備的陽極連接、不銹鋼片為陰極，陰極、陽極放入配制好的溶液，冷卻并攪拌溶液，啟動微弧氧化設備，涂層制備完成關閉微弧氧化設備，卸樣、清洗、烘干。所得涂層結合力好、組織均勻，既能提高鎂及鎂合金的抗腐蝕性能，又能改善其生物相容性。本發(fā)明制備涂層所需設備簡單，工藝穩(wěn)定可靠、易于實現(xiàn)。
[1]魯東,馬應利,鄭培生,聶全新,張偉寧.乙醇鉭的制備方法及其應用簡析[J].廣州化工,2016,44(16):186-187+226.
[2]CN201310203599.4一種球形五氧化二鉭的制備方法及應用
[3]CN201710713489.0微弧氧化制備鎂及鎂合金表面含鉭涂層的溶液配方及工藝