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12025-32-0 / 硫化鍺的應(yīng)用

背景及概述[1][2]

硫化鍺具有獨(dú)特的光學(xué)和電子變速性能,以及其高穩(wěn)定性、儲量豐富、環(huán)境友好、低毒等性能,更為重要的是其禁帶寬度小,硫化鍺薄膜具有吸收單電子的多態(tài)激子的潛力,有望應(yīng)用于新型光電探測器件。由于鍺和硫的熔點(diǎn)和沸點(diǎn)均具有較大差距,同時,又由于在硫和鍺的反應(yīng)過程中易生成硫化鍺及其他鍺的化合物,而想將其應(yīng)用于器件,比較好的辦法是將其制備成薄膜,迄今為止,還沒有有效地能大面積制備一硫化鍺薄膜的方法報道。

理化性質(zhì)[1]

雖然硅與鍺同屬于一個主族元素,但鍺易與硫生成硫化鍺和二硫化鍺,而硅則不與硫直接反應(yīng)生成硫化物。鍺的硫化物特別是硫化鍺的升華揮發(fā)溫度較低,約800-1000℃,因此只要將高硅鍺原料中的鍺暴露出來,不被包裹,并有充分的元素硫與之結(jié)合,800℃左右就能反應(yīng)生成硫化鍺升華揮發(fā)出來。隨著溫度升高,硫化鍺與硫接觸生成二硫化鍺,這時的二硫化鍺沒有升華特性,但在1000℃左右仍然能大量揮發(fā)出來。再提高溫度,對硫化鍺的揮發(fā)意義不大,反而會使二氧化硅熔融,產(chǎn)生包裹現(xiàn)象,降低硫化鍺的揮發(fā)率。

二氧化鍺是微波輻射的透過體,不吸收微波輻射,但硫化鈉,硫單質(zhì)及反應(yīng)生成的硫化鍺,硫化鍺是高吸收微波輻射的物質(zhì),因此當(dāng)采用微波輻射進(jìn)行硫化揮發(fā)時,只有其中的硫化物選擇性吸收微波輻射,產(chǎn)生瞬間高溫,使鍺與硫反應(yīng)生成硫化鍺,而硫化鍺繼續(xù)吸收微波輻射,達(dá)到升華和揮發(fā)的溫度,微波輻射透射性很強(qiáng),而且均勻,硫化鍺的揮發(fā)效率高,也不會產(chǎn)生過高的局部高溫,所得的主要是硫化鍺,利于后續(xù)工序處理,較之煙化爐,回轉(zhuǎn)窯的間接加熱方式和通過介質(zhì)進(jìn)行熱傳導(dǎo)優(yōu)越。用煙化爐或回轉(zhuǎn)窯進(jìn)行硫化揮發(fā),由于是以燃料燃燒提供熱量,不可避免地產(chǎn)生部分硫化鍺的氧化,因此得到的是硫化鍺與氧化鍺的混合物。

硫化鍺的應(yīng)用

日前,美國科學(xué)家最新設(shè)計(jì)了一種微型電池,這種微小粉紅色納米結(jié)構(gòu)可以徹底顛覆傳統(tǒng)電池設(shè)計(jì),以獨(dú)特的表面結(jié)構(gòu)存儲能量。這種“納米花”是由硫化鍺(一種半導(dǎo)體材料)制成,其花卉外形以更小的空間具有更多的表面結(jié)構(gòu)來存儲能量,這將成為理想的能量存儲應(yīng)用,例如智能手機(jī)電池。

應(yīng)用[3]

一種一硫化鍺薄膜制備方法,步驟如下:

1)稱取20mg的硫化鍺粉末放入30mL的乙醇溶液中,使用超聲波清洗機(jī)超聲震蕩15min,加入聚苯乙烯,形成紫黑的懸濁液。

2)將懸濁液平均倒入兩只離心管中,放入離心機(jī)中離心7min,離心機(jī)的轉(zhuǎn)速為2000r/min,離心后取上層清液于50mL的燒杯中。

3)稱取10mg的碘粉加入離心得到的上層清液中,再次超聲震蕩10min,使碘粉顆粒充分分散在乙醇中。

4)將需要沉積硫化鍺薄膜的ITO基片連接直流穩(wěn)壓電源的負(fù)極,將金屬鉑片連接直流穩(wěn)壓電源的正極,然后將金屬鉑片與ITO基片保持平行并浸沒在硫化鍺粉末與碘的懸濁液中,二者間距1cm左右,如1.1cm。

5)打開直流穩(wěn)壓電源,調(diào)節(jié)電壓為30V,施加在ITO基片與金屬鉑片之間,注意正負(fù)極不要接反,并開始計(jì)時5min。

沉積開始以后,可以在直流穩(wěn)壓電源的顯示器上看到有電流示數(shù)產(chǎn)生,這說明有硫化鍺顆粒正在ITO基片上沉積。計(jì)時結(jié)束后將ITO基片從懸濁液中取出來,然后在電熱鼓風(fēng)干燥箱中烘干,去除薄膜表面的碘雜質(zhì),從而得到純凈的硫化鍺薄膜。

制備[2]

(1)將質(zhì)量比為2:1的碳酸鈣和純度水平為99.5%的單質(zhì)鈣的混合物和質(zhì)量比為4:3:3的純度水平為99.9%的鍺粉、二氧化鍺、一氧化鍺的混合物以摩爾比為1:1的量裝載到石英管中,在真空封管機(jī)上排出至毫托壓力,在真空下利用氫氧焰炬密封,在1000℃下退火20小時,冷卻至室溫后,將反應(yīng)產(chǎn)物在20w%的HCl溶液中攪拌5天,溫度控制在-20℃,得到產(chǎn)物后,依次用超純水,甲醇洗滌,干燥得到純化的鍺多層石墨烯類似物GeH。

(2)將上述產(chǎn)物GeH和純度水平為99.5%的硫粉以1:5的摩爾比添加到石英管中,利用真空封管機(jī),在真空下密封,然后在800℃下退火8小時,冷卻至室溫后,依次用二硫化碳和超純水洗滌,干燥,得到層狀硫化鍺。

主要參考資料

[1]徐鍵, 夏海平, 張約品, 章踐立, & 王金浩. (2004). 不同先驅(qū)體溶膠-凝膠法制備的硫化鍺玻璃薄膜. 硅酸鹽學(xué)報, 32(8), 1029-1032.

[2] 顧少軒, 馬志軍, 潘瑞琨, 陶海征, & 趙修建. (2008). 脈沖激光沉積硫化鍺-硫化稼-硫化鎘非晶薄膜的結(jié)構(gòu)和性能. 硅酸鹽學(xué)報(12), 1725-1729.

[3] Shaoxuan, Haiping, Haizheng, ZHAO, & Xiujian. (2005). Properties and microstructure of ges2-ga2 s3- cds glasses. 武漢理工大學(xué)學(xué)報:材料科學(xué)英文版, 20(4), 120-122.