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3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑可用作醫(yī)藥化工合成中間體。如果吸入3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑，請將患者移到新鮮空氣處；如果皮膚接觸，應脫去污染的衣著，用肥皂水和清水徹底沖洗皮膚，如有不適感，就醫(yī)；如果眼晴接觸，應分開眼瞼，用流動清水或生理鹽水沖洗，并立即就醫(yī)；如果食入，立即漱口，禁止催吐，應立即就醫(yī)。
3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑可用作醫(yī)藥化工合成中間體。其應用舉例如下：
在通常的LED和半導體制造工藝中，通過在一些材料的表面上形成光刻膠的掩膜，曝光后進行圖形轉移，在得到需要的圖形之后，進行下一道工序之前，需要剝去殘留的光刻膠。在這個過程中要求完全除去不需要的光刻膠，同時不能腐蝕任何基材。目前，光刻膠清洗液主要由極性有機溶劑、強堿和/或水等組成，通過將半導體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導體晶片，去除半導體晶片上的光刻膠。
有研究開發(fā)一種新的光刻膠清洗液，該清洗液為非水性的低蝕刻清洗液。其含有：醇胺、3-氨基-5-巰基-1，2，4-三氮唑和助溶劑。這種光刻膠清洗液可以用于LED和半導體中光刻膠去除，同時對于基材基本沒有攻擊如金屬鋁等，更為特出的是該體系具有較強的耐水性，拓寬了其操作窗口，在LED和半導體晶片清洗等領域具有良好的應用前景。
螯合纖維是一類以纖維狀聚合物為載體，連接特殊功能基從而與特定物質螯合以實現分離的功能高分子，是繼離子交換樹脂、離子交換纖維發(fā)展起來的一種新型高性能吸附材料。近年來，螯合纖維在金屬離子的提取、分離、分析等方面的研究成為分離科學領域的研究熱點。腈綸螯合纖維AMTF的合成方法如下：以腈綸纖維為母體，以3-氨基-5-巰基-1,2,4三氮唑為配體，在氮氣保護條件下，得到腈綸螯合纖維AMTF。
將腈綸螯合纖維AMTF和PAR置入甲醛水溶液中，在氮氣保護條件下攪拌加熱回流3-5h，于70oC攪拌反應結束，用溫水沖洗后，干燥恒重，得到顯色纖維AMTF-PAR。本發(fā)明合成的腈綸螯合纖維AMTF具有重金屬離子吸附能力，其中，對銅離子、汞離子有較強的選擇吸附性，吸附量大，吸附速度快；本發(fā)明合成的腈綸顯色纖維AMTF-PAR具有足夠的拉伸斷裂強度以滿足實際應用需求，可以適用于不同環(huán)境下的檢測，能夠制成不同形態(tài)的顯色材料。
目前，光刻膠清洗液主要由極性有機溶劑、強堿和/或水等組成，通過將半導體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導體晶片，去除半導體晶片上的光刻膠。將晶片浸入該清洗液中，在40-90℃下除去金屬和電介質基材上的厚膜光刻膠，其對半導體晶片基材的腐蝕較高。隨著半導體的快速發(fā)展，特別是凸球封裝領域的發(fā)展，對光刻膠殘留物的清洗要求也相應提高；主要是隨著在單位面積上引腳數(I/O)越來越多，光刻膠的去除也變得越來越困難。
有研究開發(fā)一種用于半導體晶圓的光刻膠清洗液，包括以下質量百分比的原料：季銨氫氧化物32-36％、醇胺14-18％、季戊四醇7-11％、六元醇6-8％、3-氨基-5-巰基-1，2，4-三氮唑0.1-1％、表面活性劑22-26％，其余為助溶劑。與現有技術相比，選用合適的季銨氫氧化物/醇胺的比例有利于協調光刻膠去除能力和金屬微球的防腐蝕；采用了六元醇對金屬鋁和銅同時具有較強的腐蝕抑制能力；采用了醇胺作為溶劑溶解氫氧化鉀和季戊四醇，去除能力強。
二氧化硅納米材料由于具有高比表面積、成本廉價、易于合成改性、綠色環(huán)保等優(yōu)點，是吸附劑材料的理想之選。首先將納米二氧化硅顆粒和3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷混合均勻，然后加入到無水乙醇溶液中，回流反應后離心分離，取出固體物質，產物標記為GPTMS-SNPs；將GPTMS-SNPs加入到無水乙醇溶液中，加入聚乙烯亞胺，回流反應后離心分離得到的產物標記為PEI-SNPs。
將PEI-SNPs加入到二甲基甲酰胺中，加入氯乙酰氯，回流反應后離心分離取出固體物質，記為CAC-SNPs；將乙醇和水混合均勻得到混合溶液，將CAC-SNPs加入到混合溶液中，然后加入3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑，回流反應離心分離，得到最終改性二氧化硅納米顆粒吸附劑。本方法原材料廉價，制備工藝簡單，易與水溶液分離，具有高吸附性且可循環(huán)使用。
[1] CN201110211526.0一種光刻膠清洗液
[2] CN201710158211.1新型變色纖維AMTF-PAR的制備及應用
[3] CN201710878966.9一種用于半導體晶圓的光刻膠清洗液
[4] CN201611079650.5一種改性二氧化硅納米顆粒吸附劑、制備方法及其應用